每日经济新闻
互动

每经网首页 > 互动 > 正文

上海新阳:光刻胶稀释剂、底部抗反射膜(BARC)属于光刻胶配套材料,公司处于实验室研发阶段

每日经济新闻 2023-05-10 21:20:23

每经AI快讯,有投资者在投资者互动平台提问:年报显示上海新阳集成电路制造用高端光刻胶系列产品为公司面向芯片制造领域开发的电子光刻系列产品。包括 I 线光刻胶、KrF 光刻胶、ArF 干法、浸没式光刻胶以及稀释剂、底部抗反射膜(BARC)等配套材料。 请问:光刻胶稀释剂、底部抗反射膜(BARC)是否为完成研发新产品?

上海新阳(300236.SZ)5月10日在投资者互动平台表示,光刻胶稀释剂、底部抗反射膜(BARC)属于光刻胶配套材料,公司处于实验室研发阶段。

(记者 毕陆名)

免责声明:本文内容与数据仅供参考,不构成投资建议,使用前核实。据此操作,风险自担。

如需转载请与《每日经济新闻》报社联系。
未经《每日经济新闻》报社授权,严禁转载或镜像,违者必究。

读者热线:4008890008

特别提醒:如果我们使用了您的图片,请作者与本站联系索取稿酬。如您不希望作品出现在本站,可联系我们要求撤下您的作品。

欢迎关注每日经济新闻APP

每经经济新闻官方APP

0

0