创业板指、科创50双双反弹，北向资金净买127亿元

每经记者 刘明涛    每经编辑 彭水萍

今日A股低开后快速反弹，创业板指、科创50一度涨逾3%，午前各大指数均出现一定回落，截至上午收盘，上证指数涨0.73%报2979.56点，深证成指涨1.65%报9196.71点，创业板指涨1.79%报1780.22点，科创50指数涨2.35%报789.76点，北证50指数涨1.07%。市场半日成交额6746.3亿元，北向资金实际净买入126.98亿元。

流动性方面，央行公告称，为维护月末流动性平稳，2月29日以利率招标方式开展1170亿元7天期逆回购操作，中标利率为1.8%。Wind数据显示，当日有580亿元逆回购到期，因此单日净投放590亿元。

消息面，2月29日，国家统计局发布《中华人民共和国2023年国民经济和社会发展统计公报》称，初步核算，2023年国内生产总值1260582亿元，同比增长5.2%，最终消费支出拉动国内生产总值增长4.3个百分点，资本形成总额拉动国内生产总值增长1.5个百分点，货物和服务净出口向下拉动国内生产总值0.6个百分点。

英伟达最新高端H200芯片将于第二季开始出货，四大云端服务供应商积极争抢，以因应庞大的AI运算需求，Google主力代工厂广达首批搭载该款AI芯片的AI服务器已开案，预计第三季完成后段测试并量产。

板块方面，半导体产业链爆发，光刻机方向领涨，奥普光电、福晶科技、亚翔集成、柏诚股份等涨停，氢能源概念表现活跃，新动力、国林科技、洪涛股份也纷纷涨停。高位股退潮，国脉文化跌停，华研精机、克劳斯、华扬联众等大跌。

光刻机是半导体制造的核心设备，其性能直接决定了芯片的工艺水平，开发难度大，价值量高，市场规模可观，目前市场主流光刻设备有i-line、KrF、ArF、ArFi、EUV五大类；分辨率、套刻精度、产率是光刻机的核心指标，其中，分辨率直接决定制程，极致的分辨率水平是光刻机产业不懈的追求，是光刻机最重要的指标，而套刻精度影响良率，产率影响光刻机的产能及经济性。此外，多重曝光技术可在光刻机分辨率不变的情况下进一步提高芯片制程，应用较为广泛。

在全球半导体产业持续扩张的趋势下，光刻机市场规模长期可观；此外，光刻机开发难度大，产业垄断性强，是海外对华半导体制裁的重灾区，直接影响国内半导体产业先进制程的发展，因此光刻机自主突破的重要性尤为凸显，光刻机国产产业链颇具潜力。

这里，通过整合多家券商最新研报信息，为粉丝朋友带来4家公司简介，仅供参考。

1、新莱应材

半导体零部件的国产化落地已然进入攻坚期和深水区，公司在该赛道深耕多年地位显著，叠加产品品类扩张有望打开全新空间。（华福证券） 

2、奥普光电

奥普光电近年通过“长光所体外孵化+上市公司外延并购”的模式实现快速发展。航天复材需求旺盛，高精度光栅尺和编码器、工业级CMOS图像传感器深度受益国产替代，公司进入业绩拐点。（华西证券） 

3、上海新阳

公司自主研发的KrF光刻胶持续通过认证客户，已在国内主流晶圆制造厂商处实现供货，ArF光刻胶目前处于客户端认证阶段。抛光液方面，目前已有成熟的SiO2体系的抛光液成功进入客户端，实现销售，CeO2体系的部分产品已在客户产线上线测试，性能良好，公司的第二、第三成长曲线正逐步成型。（开源证券） 

4、艾森股份

公司立足于传统封装领域电镀液及配套试剂，已占据国内传统封装用电镀液及配套试剂的主力供应商地位，并沿着产业链向其他应用领域发展，已逐步覆盖被动元件、PCB、先进封装、晶圆制造、光伏等领域的电镀工艺环节，同时通过光刻胶及配套试剂产品切入光刻环节，相关产品将进一步提高公司产品线覆盖的广度，成长空间进一步打开，营收规模有望继续扩大。（平安证券） 

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