捷佳伟创：公司持续向高端清洗设备发展，正在研发28nm以下制程所需大型12吋清洗设备，目前进展顺利

每经AI快讯，有投资者在投资者互动平台提问：公司订单逐步加快，已成为N型工艺龙头，且公司在HJT和钙钛矿工艺领域也是技术领先，可以说公司在光伏电池领域已是设备翘楚，丰收在望。请问公司向半导体清洗领域扩张的进展如何，公司新公布的表金属0.55ppbw以上等级硅料出货，是国内技术上的又一次突破，请问半导体清洗领域的市场容量如何？

捷佳伟创（300724.SZ）11月29日在投资者互动平台表示，在半导体清洗领域，公司持续向高端清洗设备发展，正在研发28nm以下制程所需大型12吋清洗设备，目前进展顺利，同时公司还在向其他泛半导体领域拓展。

(记者 毕陆名)

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