国林科技：子公司国林半导体产品从2022年下半年开始进行市场导入

每经AI快讯，有投资者在投资者互动平台提问：董秘您好。贵司臭氧设备可用于光刻胶清洗，半导体清洗、请问贵司有无相关设备出货？后续有无与光刻厂领域的发展意向？感谢回复~！

国林科技（300786.SZ）9月14日在投资者互动平台表示，臭氧具有很高的氧化还原电位，具有强氧化特性、高活性的特点，近年来臭氧被认为是一种低成本的“绿色”化学品，是大多数应用的良好选择，已被广泛应用于电子工业中。典型的臭氧应用包括：化学气相沉积（CVD）、原子层薄膜沉积（ALD）、晶圆清洗、污染物及光刻胶去除、表面处理和氧化物生长等工艺制程中。子公司国林半导体产品从2022年下半年开始进行市场导入，2023年以来陆续在半导体、面板、科研等行业领域出货验证，未来公司的工作重点将围绕产品市场推广及产品迭代展开。

(记者 蔡鼎)

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