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南大光电:缺陷检测设备对28nm以下制程芯片用光刻胶的检测有重要作用

每日经济新闻 2023-02-03 16:42:02

每经AI快讯,有投资者在投资者互动平台提问:11月18日,你回复说“缺陷检测设备尚未完成采购”,12月2日,你回复说“缺陷检测设备主要针对28nm以下,而公司的ArF胶聚焦28-90nm,检测设备如光刻机已正常投入使用” 请问,目前正常使用的光刻机是什么时候采购的?缺陷检测设备既不是目前主要攻关课题,为何要抓紧采购?

南大光电(300346.SZ)2月3日在投资者互动平台表示,光刻机于2020年上半年采购进厂。 缺陷检测设备对28nm以下制程芯片用光刻胶的检测有重要作用。

(记者 毕陆名)

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