安集科技：公司用于28nm技术节点HKMG工艺的铝抛光液已取得重大突破

每经AI快讯，有投资者在投资者互动平台提问：HKMG工艺Al制程抛光液产品是国产化率最低，技术门槛最高的一类抛光液产品。友商鼎龙股份Al制程抛光液产品在28nm技术节点HKMG工艺中通过客户验证，进入吨级采购阶段。请问董秘：面对友商抛光液技术快速突破作何感想？国内抛光液市场迎来强劲对手公司作何应对？？

安集科技（688019.SH）5月24日在投资者互动平台表示，作为快速发展的市场，不同友商的出现是市场发展的自然规律，也是说明对此类市场欣欣发展的信心！ 在这样的市场发展格局中，首先，我们继续专注自身的核心技术，持续加强产品平台建设。目前公司已经形成了铜及铜阻挡层抛光液、介电材料抛光液、钨抛光液、基于氧化铈磨料的抛光液、衬底抛光液、功能性湿电子化学品和新材料新工艺七大产品平台，并均取得了不同程度的进展和突破。其中用于 28nm 技术节点 HKMG工艺的铝抛光液已取得重大突破，通过客户验证，打破了国外厂商在该应用的垄断并实现量产，标志着公司的技术攻关水平，同时进一步完善了公司的抛光液品类。同时，我们持续秉承与客户紧密合作，灵活又快速地优化研发和论证进度，满足客户需求，为客户提供最优的一站式解决方案。

(记者 张喜威)

免责声明：本文内容与数据仅供参考，不构成投资建议，使用前核实。据此操作，风险自担。